Fotoelastisitas - Riwayat revisi

Maintenance script: Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi

2026-08-26T09:03:05Z

Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi

← Revisi sebelumnya		Revisi per 26 Agustus 2026 09.03
Baris 1:		Baris 1:
			[[File:BiodegradablePlasticUtensils2.jpg\|thumb\|right\|280px\|Peralatan plastik seperti yang digambarkan menggunakan fotoelastisitas]]

	'''Fotoelastisitas''' adalah suatu metode eksperimental [[stress analysis\|untuk mendeteksi tingkat distribusi]] dalam suatu [[Bahan\|material]]. Metode digunakan dalam kasus di mana metode [[matematika]] sangat rumit untuk dicari atau didefinisikan. Fotoelastisitas tidak seperti metode analisis. Metode ini memberikan gambar yang akurat dari tingkat distribusi, bahkan meskipun adanya [[diskontinuitas]] dari bahan tersebut. Metode ini merupakan metode yag tepat untuk mencari titik kritis dalam suatu material, dan digunakan untuk menentukan konsentrasi tegangan pada geometri yang teratur.		'''Fotoelastisitas''' adalah suatu metode eksperimental [[stress analysis\|untuk mendeteksi tingkat distribusi]] dalam suatu [[Bahan\|material]]. Metode digunakan dalam kasus di mana metode [[matematika]] sangat rumit untuk dicari atau didefinisikan. Fotoelastisitas tidak seperti metode analisis. Metode ini memberikan gambar yang akurat dari tingkat distribusi, bahkan meskipun adanya [[diskontinuitas]] dari bahan tersebut. Metode ini merupakan metode yag tepat untuk mencari titik kritis dalam suatu material, dan digunakan untuk menentukan konsentrasi tegangan pada geometri yang teratur.

	== Sejarah ==		== Sejarah ==
	Fenomena fotoelastis pertama kali dijelaskan oleh seorang [[fisikawan]] asal [[Skotlandia]], [[David Brewster]]. Fotoelastisitas dikembangkan pada awal abad kedua puluh, karya [[EGCoker]] dan [[Louis Napoleon George Filon\|LNG Filon]] dari [[Universitas London]]. Buku mereka yang berjudul ''Treatise on Photoelasticity'' yang dipublikasikan tahun 1930 oleh [[Percetakan Cambridge]] menjadi acuan dasar tentang teori ini. Antara tahun 1930 dan 1940 muncul buku lain dalam [[bahasa Rusia]], [[bahasa Jerman]] dan [[bahasa Prancis]] yang membahas pada fenomena ini.		Fenomena fotoelastis pertama kali dijelaskan oleh seorang [[fisikawan]] asal [[Skotlandia]], [[David Brewster]].<ref>D. Brewster, Experiments on the depolarization of light as exhibited by various mineral, animal and vegetable bodies with a reference of the phenomena to the general principle of polarization, Phil. Tras. 1815, pp.29-53.</ref><ref>D. Brewster, On the communication of the structure of doubly-refracting crystals to glass, murite of soda, flour spar, and other substances by mechanical compression and dilation, Phil. Tras. 1816, pp.156-178.</ref> Fotoelastisitas dikembangkan pada awal abad kedua puluh, karya [[EGCoker]] dan [[Louis Napoleon George Filon\|LNG Filon]] dari [[Universitas London]]. Buku mereka yang berjudul ''Treatise on Photoelasticity'' yang dipublikasikan tahun 1930 oleh [[Percetakan Cambridge]] menjadi acuan dasar tentang teori ini. Antara tahun 1930 dan 1940 muncul buku lain dalam [[bahasa Rusia]], [[bahasa Jerman]] dan [[bahasa Prancis]] yang membahas pada fenomena ini.

	Pada saat yang sama banyak pengembangan dari teori ini terjadi di lapangan. Perbaikan besar yang dicapai dalam teknik dan peralatan disederhanakan. Dengan peningkatan teknologi lingkup fotoelastisitas diperpanjang ke bagian tiga-dimensi. Banyak masalah praktis diselesaikan menggunakan fotoelastisitas, dan segera menjadi populer. Berkaitan dengan hal itu muncul sejumlah laboratorium fotoelastis yang didirikan di institusi pendidikan dan industri.		Pada saat yang sama banyak pengembangan dari teori ini terjadi di lapangan. Perbaikan besar yang dicapai dalam teknik dan peralatan disederhanakan. Dengan peningkatan teknologi lingkup fotoelastisitas diperpanjang ke bagian tiga-dimensi. Banyak masalah praktis diselesaikan menggunakan fotoelastisitas, dan segera menjadi populer. Berkaitan dengan hal itu muncul sejumlah laboratorium fotoelastis yang didirikan di institusi pendidikan dan industri.
Baris 9:		Baris 11:

	== Prinsip Dasar ==		== Prinsip Dasar ==

	Metode ini didasarkan pada [[birefringence]], seperti yang diperagakan oleh bahan transparan tertentu. Birefringence adalah fenomena di mana sinar cahaya melewati bahan birefringent yang mengalami dua buah [[indeks bias]]. birefringence (atau pembiasan ganda) diamati di banyak optik [[kristal]] . Setelah penerapan tekanan, bahan fotoelastik menunjukkan birefringence, dan besarnya indeks bias pada setiap titik dalam materi secara langsung berkaitan dengan keadaan tekanan pada saat itu. Informasi seperti tegangan geser maksimum dan orientasinya tersedia dengan menganalisis birefringence dengan alat yang disebut [[Polariskop]].		Metode ini didasarkan pada [[birefringence]], seperti yang diperagakan oleh bahan transparan tertentu. Birefringence adalah fenomena di mana sinar cahaya melewati bahan birefringent yang mengalami dua buah [[indeks bias]]. birefringence (atau pembiasan ganda) diamati di banyak optik [[kristal]] . Setelah penerapan tekanan, bahan fotoelastik menunjukkan birefringence, dan besarnya indeks bias pada setiap titik dalam materi secara langsung berkaitan dengan keadaan tekanan pada saat itu. Informasi seperti tegangan geser maksimum dan orientasinya tersedia dengan menganalisis birefringence dengan alat yang disebut [[Polariskop]].

	Ketika sinar [[radiasi elektromagnetik\|cahaya]] melewati bahan fotoelastis, komponen gelombang elektromagnetik yang diselesaikan sepanjang dua [[Stres (mekanik)\|dasar arah stres]] dan setiap komponen mengalami indeks bias yang berbeda karena birefringence. Perbedaan indeks bias menyebabkan [[fase (gelombang)\|fase]] relatif retardasi antara dua komponen. Dengan asumsi spesimen tipis yang terbuat dari [[hukum Hooke\|isotropik]] bahan, di mana dua dimensi fotoelastisitas berlaku, besarnya magnitude dicari dengan menggunakan '' hukum stres-optik '':		Ketika sinar [[radiasi elektromagnetik\|cahaya]] melewati bahan fotoelastis, komponen gelombang elektromagnetik yang diselesaikan sepanjang dua [[Stres (mekanik)\|dasar arah stres]] dan setiap komponen mengalami indeks bias yang berbeda karena birefringence. Perbedaan indeks bias menyebabkan [[fase (gelombang)\|fase]] relatif retardasi antara dua komponen. Dengan asumsi spesimen tipis yang terbuat dari [[hukum Hooke\|isotropik]] bahan, di mana dua dimensi fotoelastisitas berlaku, besarnya magnitude dicari dengan menggunakan '' hukum stres-optik '':<ref>Dally, J.W. and Riley, W.F., ''Experimental Stress Analysis,'' 3rd edition, McGraw-Hill Inc., 1991</ref>
	:<math> \Delta = \frac{2\pi t }{\lambda} C ( \sigma_{1} - \sigma_{2}) </math>		:<math> \Delta = \frac{2\pi t }{\lambda} C ( \sigma_{1} - \sigma_{2}) </math>
	di mana Delta; adalah keterbelakangan yang diinduksi( induced retardation), '' C '' adalah koefisien stres-optik, '' t '' adalah ketebalan spesimen, '' λ '' adalah [[panjang gelombang]] vakum, dan σ<sub>1</sub> and σ<sub>2</sub> adalah tegangan utama pertama dan kedua, masing-masing. Retardasi perubahan polarisasi cahaya yang ditransmisikan. Polariskop ini menggabungkan negara polarisasi yang berbeda dari [[Cahaya\|gelombang cahaya]] sebelum dan setelah melewati spesimen. Karena optik [[Interferensi (propagasi gelombang)\|gangguan]] dari dua gelombang, pola pinggiran terungkap. Jumlah pinggiran rangka '' N '' dilambangkan sebagai		di mana Delta; adalah keterbelakangan yang diinduksi( induced retardation), '' C '' adalah koefisien stres-optik, '' t '' adalah ketebalan spesimen, '' λ '' adalah [[panjang gelombang]] vakum, dan σ<sub>1</sub> and σ<sub>2</sub> adalah tegangan utama pertama dan kedua, masing-masing. Retardasi perubahan polarisasi cahaya yang ditransmisikan. Polariskop ini menggabungkan negara polarisasi yang berbeda dari [[Cahaya\|gelombang cahaya]] sebelum dan setelah melewati spesimen. Karena optik [[Interferensi (propagasi gelombang)\|gangguan]] dari dua gelombang, pola pinggiran terungkap. Jumlah pinggiran rangka '' N '' dilambangkan sebagai
Baris 22:		Baris 23:

	== Isoklinik dan Isokhromatis ==		== Isoklinik dan Isokhromatis ==

	Isoklinik adalah lokus dari titik-titik di sepanjang spesimen yang tekanan utama adalah dalam arah yang sama.		Isoklinik adalah lokus dari titik-titik di sepanjang spesimen yang tekanan utama adalah dalam arah yang sama.

	Isokhromatis adalah lokus dari titik sepanjang yang perbedaan tegangan utama pertama dan kedua tetap sama. Jadi mereka adalah garis yang bergabung poin dengan sama besarnya maksimum tegangan geser.		Isokhromatis adalah lokus dari titik sepanjang yang perbedaan tegangan utama pertama dan kedua tetap sama. Jadi mereka adalah garis yang bergabung poin dengan sama besarnya maksimum tegangan geser.<ref>Ramesh, K., ''Digital Photoelasticity,'' Springer, 2000</ref>

	== Photoelastisitas Dua Dimensi ==		== Photoelastisitas Dua Dimensi ==

	Fotoelastisitas dapat diterapkan baik untuk polas tres tiga dimensi dan dua dimensi . Namun penerapan photoelastisitas ke pola stres tiga-dimensi lebih sulit dibandingkan dengan keadaan sistem dua dimensi atau 'Plane Stress'. Jadi bagian ini berkaitan dengan penerapan fotoelastisitas dalam penyelidikan dari sistem 'Plane Stress'. Kondisi ini dicapai ketika ketebalan prototipe jauh lebih kecil dibandingkan dengan dimensi di 'Plane'. Jadi satu hanya berkaitan dengan tekanan yang sejajar dengan bidang model, sebagai komponen stres lainnya adalah nol. Pengaturan eksperimental bervariasi dari percobaan untuk bereksperimen. Dua jenis dasar pengaturan yang digunakan adalah pesawat polariskop dan polariskop lingkaran.		Fotoelastisitas dapat diterapkan baik untuk polas tres tiga dimensi dan dua dimensi . Namun penerapan photoelastisitas ke pola stres tiga-dimensi lebih sulit dibandingkan dengan keadaan sistem dua dimensi atau 'Plane Stress'. Jadi bagian ini berkaitan dengan penerapan fotoelastisitas dalam penyelidikan dari sistem 'Plane Stress'. Kondisi ini dicapai ketika ketebalan prototipe jauh lebih kecil dibandingkan dengan dimensi di 'Plane'. Jadi satu hanya berkaitan dengan tekanan yang sejajar dengan bidang model, sebagai komponen stres lainnya adalah nol. Pengaturan eksperimental bervariasi dari percobaan untuk bereksperimen. Dua jenis dasar pengaturan yang digunakan adalah pesawat polariskop dan polariskop lingkaran.

	Prinsip kerja dari fotoelastisitas dua dimensi memungkinkan pengukuran keterbelakangan, yang dapat dikonversi ke perbedaan antara tegangan utama pertama dan kedua . Untuk lebih mendapatkan nilai dari masing-masing komponen stres, teknik yang disebut stres-pemisahan. Several theoretical and experimental methods are utilized to provide additional information to solve individual stress components.		Prinsip kerja dari fotoelastisitas dua dimensi memungkinkan pengukuran keterbelakangan, yang dapat dikonversi ke perbedaan antara tegangan utama pertama dan kedua . Untuk lebih mendapatkan nilai dari masing-masing komponen stres, teknik yang disebut stres-pemisahan.<ref>Fernandez M.S-B., Calderon, J.M.A., Diez, P.M.B and Segura, I.I.C, Stress-separation techniques in photoelasticity: A review. ''The Journal of Strain Analysis for Engineering Design'', 2010, 45:1 [doi:10.1243/03093247JSA583]</ref> Several theoretical and experimental methods are utilized to provide additional information to solve individual stress components.

	== Plane polariskop ==		== Plane polariskop ==
Baris 37:		Baris 36:

	Pola pinggiran dalam pengaturan pesawat polariskop terdiri dari kedua isokhromatis dan isoklinik. Isoklinik berubah dengan orientasi polariskop sementara tidak ada perubahan dalam isokhromatis.		Pola pinggiran dalam pengaturan pesawat polariskop terdiri dari kedua isokhromatis dan isoklinik. Isoklinik berubah dengan orientasi polariskop sementara tidak ada perubahan dalam isokhromatis.


	== Sirkuler polariskop ==		== Sirkuler polariskop ==

	Dalam pengaturan polariskop dua kuartal - [[plat gelombang\|Wave Plate]] ditambahkan ke dalam pengaturan eksperimental pesawat polariskop. Pelat kuartal-gelombang pertama ditempatkan di antara polarizer dan spesimen dan lempeng kuartal-gelombang kedua ditempatkan antara spesimen dan analisis. Pengaruh penambahan pelat seperempat-gelombang setelah polarizer sumber-sisi adalah bahwa kita mendapatkan [[polarisasi melingkar\|cahaya terpolarisasi sirkuler]] melewati sampel. Pelat kuartal gelombang sisi analyzer mengubah keadaan polarisasi melingkar kembali ke linier sebelum cahaya melewati analisis.		Dalam pengaturan polariskop dua kuartal - [[plat gelombang\|Wave Plate]] ditambahkan ke dalam pengaturan eksperimental pesawat polariskop. Pelat kuartal-gelombang pertama ditempatkan di antara polarizer dan spesimen dan lempeng kuartal-gelombang kedua ditempatkan antara spesimen dan analisis. Pengaruh penambahan pelat seperempat-gelombang setelah polarizer sumber-sisi adalah bahwa kita mendapatkan [[polarisasi melingkar\|cahaya terpolarisasi sirkuler]] melewati sampel. Pelat kuartal gelombang sisi analyzer mengubah keadaan polarisasi melingkar kembali ke linier sebelum cahaya melewati analisis.

Baris 46:		Baris 43:

	== Aplikasi ==		== Aplikasi ==

	Fotoelastisitas telah digunakan untuk berbagai stres analisis dan bahkan untuk penggunaan rutin dalam desain, khususnya sebelum munculnya metode numerik, seperti untuk elemen terbatas hingga elemen bergerak.		Fotoelastisitas telah digunakan untuk berbagai stres analisis dan bahkan untuk penggunaan rutin dalam desain, khususnya sebelum munculnya metode numerik, seperti untuk elemen terbatas hingga elemen bergerak.

Baris 53:		Baris 49:
	* [[Photoelastik modulator]]		* [[Photoelastik modulator]]
	* [[Polarimetri]]		* [[Polarimetri]]

	~~== Referensi ==~~


	== Pranala luar ==		== Pranala luar ==
	* [http://www.doitpoms.ac.uk/tlplib/photoelasticity/history.php University of Cambridge Page on Photoelasticity.]		* [http://www.doitpoms.ac.uk/tlplib/photoelasticity/history.php University of Cambridge Page on Photoelasticity.]
	* [http://public.fotki.com/ROBERT1010/scitech/photoelasticstress4.html Photograph of photoelastic stress pattern using plane-polarized white light.]		* [http://public.fotki.com/ROBERT1010/scitech/photoelasticstress4.html Photograph of photoelastic stress pattern using plane-polarized white light.]
	* [http://ssmg.ing.unitn.it Laboratory for Physical Modeling of Structures and Photoelasticity (University of Trento, Italy)]		* [http://ssmg.ing.unitn.it Laboratory for Physical Modeling of Structures and Photoelasticity (University of Trento, Italy)]

			== Referensi ==
			<references />

			== Sumber dan atribusi ==

	== ~~Sumber~~ dan ~~atribusi ==~~		Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Fotoelastisitas&oldid=28427622 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 28427622 (2025-11-12T10:39:31Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Gambar pada artikel ini bersumber dari Wikimedia Commons dan mengikuti ketentuan lisensi masing-masing berkas. Mohon gunakan konten dan media secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.

	~~Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Fotoelastisitas&oldid=28427622 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 28427622 (2025~~-11-~~12T10:39:31Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi~~-~~BerbagiSerupa (CC BY~~-~~SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.~~		<!-- WIKI_UNISSULA_PRESENTATION_V4 -->

Maintenance script: Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 28427622; atribusi sumber disertakan.

2026-08-26T08:23:17Z

Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 28427622; atribusi sumber disertakan.

Halaman baru

'''Fotoelastisitas''' adalah suatu metode eksperimental [[stress analysis|untuk mendeteksi tingkat distribusi]] dalam suatu [[Bahan|material]]. Metode digunakan dalam kasus di mana metode [[matematika]] sangat rumit untuk dicari atau didefinisikan. Fotoelastisitas tidak seperti metode analisis. Metode ini memberikan gambar yang akurat dari tingkat distribusi, bahkan meskipun adanya [[diskontinuitas]] dari bahan tersebut. Metode ini merupakan metode yag tepat untuk mencari titik kritis dalam suatu material, dan digunakan untuk menentukan konsentrasi tegangan pada geometri yang teratur.

== Sejarah ==
Fenomena fotoelastis pertama kali dijelaskan oleh seorang [[fisikawan]] asal [[Skotlandia]], [[David Brewster]]. Fotoelastisitas dikembangkan pada awal abad kedua puluh, karya [[EGCoker]] dan [[Louis Napoleon George Filon|LNG Filon]] dari [[Universitas London]]. Buku mereka yang berjudul ''Treatise on Photoelasticity'' yang dipublikasikan tahun 1930 oleh [[Percetakan Cambridge]] menjadi acuan dasar tentang teori ini. Antara tahun 1930 dan 1940 muncul buku lain dalam [[bahasa Rusia]], [[bahasa Jerman]] dan [[bahasa Prancis]] yang membahas pada fenomena ini.

Pada saat yang sama banyak pengembangan dari teori ini terjadi di lapangan. Perbaikan besar yang dicapai dalam teknik dan peralatan disederhanakan. Dengan peningkatan teknologi lingkup fotoelastisitas diperpanjang ke bagian tiga-dimensi. Banyak masalah praktis diselesaikan menggunakan fotoelastisitas, dan segera menjadi populer. Berkaitan dengan hal itu muncul sejumlah laboratorium fotoelastis yang didirikan di institusi pendidikan dan industri.

Dengan munculnya [[polariskop]] digital menggunakan [[Dioda|diode]] pemancar cahaya, pemantauan terus menerus dari struktur bawah beban menjadi mungkin. Hal ini menyebabkan perkembangan fotoelastisitas dinamis. Fotoelastisitas dinamis telah memberikan kontribusi besar dalam mempelajari fenomena kompleks seperti fraktur bahan.

== Prinsip Dasar ==

Metode ini didasarkan pada [[birefringence]], seperti yang diperagakan oleh bahan transparan tertentu. Birefringence adalah fenomena di mana sinar cahaya melewati bahan birefringent yang mengalami dua buah [[indeks bias]]. birefringence (atau pembiasan ganda) diamati di banyak optik [[kristal]] . Setelah penerapan tekanan, bahan fotoelastik menunjukkan birefringence, dan besarnya indeks bias pada setiap titik dalam materi secara langsung berkaitan dengan keadaan tekanan pada saat itu. Informasi seperti tegangan geser maksimum dan orientasinya tersedia dengan menganalisis birefringence dengan alat yang disebut [[Polariskop]].

Ketika sinar [[radiasi elektromagnetik|cahaya]] melewati bahan fotoelastis, komponen gelombang elektromagnetik yang diselesaikan sepanjang dua [[Stres (mekanik)|dasar arah stres]] dan setiap komponen mengalami indeks bias yang berbeda karena birefringence. Perbedaan indeks bias menyebabkan [[fase (gelombang)|fase]] relatif retardasi antara dua komponen. Dengan asumsi spesimen tipis yang terbuat dari [[hukum Hooke|isotropik]] bahan, di mana dua dimensi fotoelastisitas berlaku, besarnya magnitude dicari dengan menggunakan '' hukum stres-optik '':
:<math> \Delta = \frac{2\pi t }{\lambda} C ( \sigma_{1} - \sigma_{2}) </math>
di mana Delta; adalah keterbelakangan yang diinduksi( induced retardation), '' C '' adalah koefisien stres-optik, '' t '' adalah ketebalan spesimen, '' λ '' adalah [[panjang gelombang]] vakum, dan σ<sub>1</sub> and σ<sub>2</sub> adalah tegangan utama pertama dan kedua, masing-masing. Retardasi perubahan polarisasi cahaya yang ditransmisikan. Polariskop ini menggabungkan negara polarisasi yang berbeda dari [[Cahaya|gelombang cahaya]] sebelum dan setelah melewati spesimen. Karena optik [[Interferensi (propagasi gelombang)|gangguan]] dari dua gelombang, pola pinggiran terungkap. Jumlah pinggiran rangka '' N '' dilambangkan sebagai
:<math> N = \frac{\Delta}{2\pi}</math>

yang tergantung pada keterbelakangan relatif. Dengan mempelajari pola pinggiran seseorang dapat menentukan keadaan stres pada berbagai titik dalam materi.

Untuk bahan yang tidak menunjukkan perilaku fotoelastis, masih mungkin untuk mempelajari distribusi tegangan. Langkah pertama adalah untuk membangun sebuah model, menggunakan bahan fotoelastis, yang memiliki geometri yang mirip dengan struktur nyata dalam penyelidikan. Loading kemudian diterapkan dengan cara yang sama untuk memastikan bahwa distribusi tegangan dalam model mirip dengan stres dalam struktur nyata.

== Isoklinik dan Isokhromatis ==

Isoklinik adalah lokus dari titik-titik di sepanjang spesimen yang tekanan utama adalah dalam arah yang sama.

Isokhromatis adalah lokus dari titik sepanjang yang perbedaan tegangan utama pertama dan kedua tetap sama. Jadi mereka adalah garis yang bergabung poin dengan sama besarnya maksimum tegangan geser.

== Photoelastisitas Dua Dimensi ==

Fotoelastisitas dapat diterapkan baik untuk polas tres tiga dimensi dan dua dimensi . Namun penerapan photoelastisitas ke pola stres tiga-dimensi lebih sulit dibandingkan dengan keadaan sistem dua dimensi atau 'Plane Stress'. Jadi bagian ini berkaitan dengan penerapan fotoelastisitas dalam penyelidikan dari sistem 'Plane Stress'. Kondisi ini dicapai ketika ketebalan prototipe jauh lebih kecil dibandingkan dengan dimensi di 'Plane'. Jadi satu hanya berkaitan dengan tekanan yang sejajar dengan bidang model, sebagai komponen stres lainnya adalah nol. Pengaturan eksperimental bervariasi dari percobaan untuk bereksperimen. Dua jenis dasar pengaturan yang digunakan adalah pesawat polariskop dan polariskop lingkaran.

Prinsip kerja dari fotoelastisitas dua dimensi memungkinkan pengukuran keterbelakangan, yang dapat dikonversi ke perbedaan antara tegangan utama pertama dan kedua . Untuk lebih mendapatkan nilai dari masing-masing komponen stres, teknik yang disebut stres-pemisahan. Several theoretical and experimental methods are utilized to provide additional information to solve individual stress components.

== Plane polariskop ==
Pengatutrannya terdiri dari dua [[polarizer]] linear dan sumber cahaya. Sumber cahaya dapat dengan baik memancarkan cahaya [[monokromatik]] atau cahaya putih tergantung pada percobaan. Pertama cahaya dilewatkan melalui polarizer pertama yang mengubah cahaya menjadi pesawat ringan terpolarisasi. Aparat diatur sedemikian rupa bahwa pesawat ringan ini terpolarisasi kemudian melewati spesimen . Cahaya ini kemudian mengikuti, pada setiap titik dari spesimen, arah tegangan utama pada saat itu. Lampu tersebut kemudian dibuat untuk melewati analisis dan kami akhirnya mendapatkan pola pinggiran.

Pola pinggiran dalam pengaturan pesawat polariskop terdiri dari kedua isokhromatis dan isoklinik. Isoklinik berubah dengan orientasi polariskop sementara tidak ada perubahan dalam isokhromatis.

== Sirkuler polariskop ==

Dalam pengaturan polariskop dua kuartal - [[plat gelombang|Wave Plate]] ditambahkan ke dalam pengaturan eksperimental pesawat polariskop. Pelat kuartal-gelombang pertama ditempatkan di antara polarizer dan spesimen dan lempeng kuartal-gelombang kedua ditempatkan antara spesimen dan analisis. Pengaruh penambahan pelat seperempat-gelombang setelah polarizer sumber-sisi adalah bahwa kita mendapatkan [[polarisasi melingkar|cahaya terpolarisasi sirkuler]] melewati sampel. Pelat kuartal gelombang sisi analyzer mengubah keadaan polarisasi melingkar kembali ke linier sebelum cahaya melewati analisis.

Keuntungan dasar dari polariskop melingkar di atas pesawat polariskop adalah bahwa dalam pengaturan polariskop melingkar kita hanya mendapatkan isokhromatis dan tidak isoklinik. Ini menghilangkan masalah utnuk membedakan antara mana bagian isoklinik dan isokhromatis.

== Aplikasi ==

Fotoelastisitas telah digunakan untuk berbagai stres analisis dan bahkan untuk penggunaan rutin dalam desain, khususnya sebelum munculnya metode numerik, seperti untuk elemen terbatas hingga elemen bergerak.

== Lihat pula ==
* [[Acousto-optic modulator]]
* [[Photoelastik modulator]]
* [[Polarimetri]]

== Referensi ==

== Pranala luar ==
* [http://www.doitpoms.ac.uk/tlplib/photoelasticity/history.php University of Cambridge Page on Photoelasticity.]
* [http://public.fotki.com/ROBERT1010/scitech/photoelasticstress4.html Photograph of photoelastic stress pattern using plane-polarized white light.]
* [http://ssmg.ing.unitn.it Laboratory for Physical Modeling of Structures and Photoelasticity (University of Trento, Italy)]

== Sumber dan atribusi ==

Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Fotoelastisitas&oldid=28427622 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 28427622 (2025-11-12T10:39:31Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.