Maintenance script: Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi

2026-08-26T04:05:54Z

Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi

← Revisi sebelumnya		Revisi per 26 Agustus 2026 04.05
Baris 1:		Baris 1:
	'''Plasma gandeng induktif''' () adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.		[[File:Inductively_Coupled_Plasma.jpg\|thumb\|right\|280px\|Gambar 1. Gambar obor ICP untuk analisis]]

			'''Plasma gandeng induktif''' () adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.<ref>A. Montaser and D. W. Golightly, eds. [https://archive.org/details/inductivelycoupl0000unse Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry]. VCH Publishers, Inc., New York,. 1992.</ref>

	== Pengoperasian ==		== Pengoperasian ==
	Terdapat tiga jenis geometri ICP: planar (Gambar 2 (a)), silinder (Gambar 2 (b)), dan spiral yang dilengkungkan setengah lingkaran (semi-toroidal, Gambar 2 (c)).		Terdapat tiga jenis geometri ICP: planar (Gambar 2 (a)), silinder<ref>Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite. ''Physics of Radio-Frequency Plasmas''. Cambridge University Press, Cambridge. 2011. hlm. 219–259. ISBN 978-0521-76300-4.</ref> (Gambar 2 (b)), dan spiral yang dilengkungkan setengah lingkaran (semi-toroidal, Gambar 2 (c)).<ref>Evgeny V. Shun'ko. ''Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV''. ''IEEE Transactions on Plasma Science''. 2014. Vol. 42 (3). hlm. 774–785. doi:10.1109/TPS.2014.2299954.</ref>

	Pada geometri planar, elektrode berbentuk panjang dan terbuat dari logam pipih yang dilingkarkan seperti spiral (atau koil). Pada geometri silinder, tampak seperti pegas [[heliks]]. Pada geometri semi-toroidal, [[toroidal]] [[solenoid]] dipotong sesuai diameternya menjadi dua bagian yang sama panjang.		Pada geometri planar, elektrode berbentuk panjang dan terbuat dari logam pipih yang dilingkarkan seperti spiral (atau koil). Pada geometri silinder, tampak seperti pegas [[heliks]]. Pada geometri semi-toroidal, [[toroidal]] [[solenoid]] dipotong sesuai diameternya menjadi dua bagian yang sama panjang.

	Ketika arus listrik melintasi koil sesuai fungsi waktu, akan menimbulkan medan magnet di sekelilingnya sesuai fungsi waktu pula, yang kemudian akan menginduksi [[medan listrik]] azimutal dalam gas umpan. Hal ini memicu formasi trayektori elektron seperti pada Gambar 8, dan menghasilkan plasma (Lihat [[Persamaan Hamilton-Jacobi]] pada [[medan elektromagnetik]]). Argon adalah salah satu contoh yang banyak digunakan sebagai gas umpan.		Ketika arus listrik melintasi koil sesuai fungsi waktu, akan menimbulkan medan magnet di sekelilingnya sesuai fungsi waktu pula, yang kemudian akan menginduksi [[medan listrik]] azimutal dalam gas umpan. Hal ini memicu formasi trayektori elektron seperti pada Gambar 8,<ref>Evgeny V. Shun'ko. ''Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV''. ''IEEE Transactions on Plasma Science''. 2014. Vol. 42 (3). hlm. 774–785. doi:10.1109/TPS.2014.2299954.</ref> dan menghasilkan plasma (Lihat [[Persamaan Hamilton-Jacobi]] pada [[medan elektromagnetik]]). Argon adalah salah satu contoh yang banyak digunakan sebagai gas umpan.

	== Aplikasi ==		== Aplikasi ==
	[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV), sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015 cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.		[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV),<ref>Evgeny V. Shun'ko. ''Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV''. ''IEEE Transactions on Plasma Science''. 2014. Vol. 42 (3). hlm. 774–785. doi:10.1109/TPS.2014.2299954.</ref> sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015 cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.
	* [[Spektroskopi emisi atom plasma gandeng induktif\|ICP-AES]], jenis [[spektroskopi emisi atom]].		* [[Spektroskopi emisi atom plasma gandeng induktif\|ICP-AES]], jenis [[spektroskopi emisi atom]].
	* [[:en:Inductively coupled plasma mass spectrometry\|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].		* [[:en:Inductively coupled plasma mass spectrometry\|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].
	* [[:en:Reactive-ion etching\|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion etching\|reactive-ion etching]].		* [[:en:Reactive-ion etching\|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion etching\|reactive-ion etching]].
	* Mengeksitasi [[gas mulia]] ke kondisi metastabil.		* Mengeksitasi [[gas mulia]] ke kondisi metastabil.<ref>Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron. ''Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source''. Journal of Instrumentation, Cambridge. 2015. Vol. 10 (03). hlm. P03009. doi:10.1088/1748-0221/10/03/P03009.</ref>
	Keuntungan lain dari keluaran ICP adalah kondisinya yang relatif bebas kontaminasi karena elektrodenya berada di luar bejana reaksi. Sebaliknya, ''[[capacitively coupled plasma]]'' (CCP), sering kali elektrodenya berada di dalam reaktor dan oleh karenanya terekspos plasma dan spesies bahan kimia yang mungkin reaktif.		Keuntungan lain dari keluaran ICP adalah kondisinya yang relatif bebas kontaminasi karena elektrodenya berada di luar bejana reaksi. Sebaliknya, ''[[capacitively coupled plasma]]'' (CCP), sering kali elektrodenya berada di dalam reaktor dan oleh karenanya terekspos plasma dan spesies bahan kimia yang mungkin reaktif.

Baris 23:		Baris 25:

	== Referensi ==		== Referensi ==
			<references />

			== Sumber dan atribusi ==

			Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Plasma+gandeng+induktif&oldid=29298470 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 29298470 (2026-05-31T17:06:27Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Gambar pada artikel ini bersumber dari Wikimedia Commons dan mengikuti ketentuan lisensi masing-masing berkas. Mohon gunakan konten dan media secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.

	~~== Sumber dan atribusi ==~~		<!-- WIKI_UNISSULA_PRESENTATION_V4 -->

	~~Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Plasma+gandeng+induktif&oldid=29298470 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 29298470 (2026~~-05-~~31T17:06:27Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi~~-~~BerbagiSerupa (CC BY~~-~~SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.~~

Maintenance script: Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 29298470; atribusi sumber disertakan.

2026-08-26T03:40:08Z

Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 29298470; atribusi sumber disertakan.

Halaman baru

'''Plasma gandeng induktif''' () adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.

== Pengoperasian ==
Terdapat tiga jenis geometri ICP: planar (Gambar 2 (a)), silinder (Gambar 2 (b)), dan spiral yang dilengkungkan setengah lingkaran (semi-toroidal, Gambar 2 (c)).

Pada geometri planar, elektrode berbentuk panjang dan terbuat dari logam pipih yang dilingkarkan seperti spiral (atau koil). Pada geometri silinder, tampak seperti pegas [[heliks]]. Pada geometri semi-toroidal, [[toroidal]] [[solenoid]] dipotong sesuai diameternya menjadi dua bagian yang sama panjang.

Ketika arus listrik melintasi koil sesuai fungsi waktu, akan menimbulkan medan magnet di sekelilingnya sesuai fungsi waktu pula, yang kemudian akan menginduksi [[medan listrik]] azimutal dalam gas umpan. Hal ini memicu formasi trayektori elektron seperti pada Gambar 8, dan menghasilkan plasma (Lihat [[Persamaan Hamilton-Jacobi]] pada [[medan elektromagnetik]]). Argon adalah salah satu contoh yang banyak digunakan sebagai gas umpan.

== Aplikasi ==
[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV), sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015 cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.
* [[Spektroskopi emisi atom plasma gandeng induktif|ICP-AES]], jenis [[spektroskopi emisi atom]].
* [[:en:Inductively coupled plasma mass spectrometry|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].
* [[:en:Reactive-ion etching|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion etching|reactive-ion etching]].
* Mengeksitasi [[gas mulia]] ke kondisi metastabil.
Keuntungan lain dari keluaran ICP adalah kondisinya yang relatif bebas kontaminasi karena elektrodenya berada di luar bejana reaksi. Sebaliknya, ''[[capacitively coupled plasma]]'' (CCP), sering kali elektrodenya berada di dalam reaktor dan oleh karenanya terekspos plasma dan spesies bahan kimia yang mungkin reaktif.

== Lihat juga ==
* [[:en:Pulsed inductive thruster|Pulsed inductive thruster]]
* [[:en:Induction plasma technology|Induction plasma technology]]
* [[Daftar artikel plasma (fisika)]]
* [[:en:Capacitively coupled plasma|Capacitively coupled plasma]]

== Referensi ==

== Sumber dan atribusi ==

Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Plasma+gandeng+induktif&oldid=29298470 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 29298470 (2026-05-31T17:06:27Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.

Plasma gandeng induktif - Riwayat revisi

Maintenance script: Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi

Maintenance script: Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 29298470; atribusi sumber disertakan.