<?xml version="1.0"?>
<feed xmlns="http://www.w3.org/2005/Atom" xml:lang="id">
	<id>https://wiki.unissula.ac.id/index.php?action=history&amp;feed=atom&amp;title=Proses_7_nm</id>
	<title>Proses 7 nm - Riwayat revisi</title>
	<link rel="self" type="application/atom+xml" href="https://wiki.unissula.ac.id/index.php?action=history&amp;feed=atom&amp;title=Proses_7_nm"/>
	<link rel="alternate" type="text/html" href="https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;action=history"/>
	<updated>2026-09-16T04:08:12Z</updated>
	<subtitle>Riwayat revisi halaman ini di wiki</subtitle>
	<generator>MediaWiki 1.46.0</generator>
	<entry>
		<id>https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;diff=1721&amp;oldid=prev</id>
		<title>Maintenance script: Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi</title>
		<link rel="alternate" type="text/html" href="https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;diff=1721&amp;oldid=prev"/>
		<updated>2026-08-23T10:22:31Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi&lt;/p&gt;
&lt;a href=&quot;https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;amp;diff=1721&amp;amp;oldid=1321&quot;&gt;Lihat perubahan&lt;/a&gt;</summary>
		<author><name>Maintenance script</name></author>
	</entry>
	<entry>
		<id>https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;diff=1321&amp;oldid=prev</id>
		<title>Maintenance script: Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 29454921; atribusi sumber disertakan.</title>
		<link rel="alternate" type="text/html" href="https://wiki.unissula.ac.id/index.php?title=Proses_7_nm&amp;diff=1321&amp;oldid=prev"/>
		<updated>2026-08-23T09:43:24Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 29454921; atribusi sumber disertakan.&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;b&gt;Halaman baru&lt;/b&gt;&lt;/p&gt;&lt;div&gt;Pada bidang [[Fabrikasi semikonduktor|manufaktur semikonduktor]], dalam Peta Jalan Perangkat dan Sistem Internasional mendefinisikan proses 7&amp;amp;nbsp;nm adalah generasi lanjutan dari teknologi MOSFET [[proses 10 nm]]. Proses ini didasarkan pada teknologi FinFET (fin field-effect transistor), sejenis teknologi MOSFET multi-gerbang.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[TSMC|Taiwan Semiconductor Manufacturing Company]] (TSMC) memulai produksi chip memori [[SRAM]] 256 Mbit menggunakan proses 7&amp;amp;nbsp;nm yang disebut N7 pada Juni 2016, kemudian Samsung memulai produksi massal proses 7&amp;amp;nbsp;nm mereka yang disebut perangkat 7LPP pada tahun 2018. Produk awal untuk teknologi prosesor 7&amp;amp;nbsp;nm adalah Apple A12 Bionic, dirilis pada acara Apple September 2018. Meskipun Huawei mengumumkan prosesor 7&amp;amp;nbsp;nm ([[Kirin 980]]) miliknya sendiri sebelum [[Apple A12]] Bionic, pada 31 Agustus 2018, tetapi Apple A12 Bionic dirilis di pasarkan massal lebih awal. Kedua chip tersebut diproduksi oleh TSMC.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Pada tahun 2017 [[AMD]] merilis prosesor &amp;quot;Roma&amp;quot; (EPYC 2) untuk aplikasi server dan pusat data, yang didasarkan pada proses N7 TSMC  dengan fitur 64 inti dan 128 utas. Mereka juga merilis prosesor desktop konsumen &amp;quot;Matisse&amp;quot; dengan fitur 16 inti dan 32 utas. Namun, cetakan I/O pada modul multi-chip Roma (MCM) dibuat dengan proses 14&amp;amp;nbsp;nm (14HP) oleh [[GlobalFoundries]], sementara cetakan I/O Matisse menggunakan proses 12&amp;amp;nbsp;nm (12LP+) GlobalFoundries. Seri Radeon RX 5000 juga didasarkan pada proses N7 TSMC.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Lihat pula ==&lt;br /&gt;
* [[International Technology Roadmap for Semiconductors]]&lt;br /&gt;
* [[Fabrikasi semikonduktor]]&lt;br /&gt;
* [[Fotolitografi]]&lt;br /&gt;
* [[Litografi ultraviolet ekstrem]]&lt;br /&gt;
* [[Litografi rendam]]&lt;br /&gt;
* [[ASML Holding]] pemasok sistem [[fotolitografi]] terbesar, terutama untuk industri [[semikonduktor]].&lt;br /&gt;
* [[Semiconductor Equipment and Materials International|SEMI]] — The semiconductor industry trade association&lt;br /&gt;
* [[Electronic design automation]]&lt;br /&gt;
* [[Fab (semiconductors)|Fab]]&lt;br /&gt;
* [[Foundry]]&lt;br /&gt;
* [[GDS-II]]&lt;br /&gt;
* [[OASIS (standard)|OASIS]]&lt;br /&gt;
* [[Taiwan Semiconductor Manufacturing Company]] TSMC&lt;br /&gt;
* [[Applied Materials]]&lt;br /&gt;
* [[KLA Corporation]]&lt;br /&gt;
* [[Lam Research]]&lt;br /&gt;
* [[Tokyo Electron]]&lt;br /&gt;
* [[GlobalFoundries]]&lt;br /&gt;
* [[United Microelectronics Corporation]]&lt;br /&gt;
* [[Semiconductor Manufacturing International Corporation]]&lt;br /&gt;
* [[Shanghai Micro Electronics Equipment]]&lt;br /&gt;
* [[Sirkuit terpadu]]&lt;br /&gt;
* [[Mikroprosesor]]&lt;br /&gt;
* [[Unit Pemroses Sentral]]&lt;br /&gt;
* [[MOSFET]]&lt;br /&gt;
* [[Transistor]]&lt;br /&gt;
* [[Semikonduktor]]&lt;br /&gt;
* [[Nanometer]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
==Referensi==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Pranala luar ==&lt;br /&gt;
* [https://en.wikichip.org/wiki/7_nm_lithography_process 7 nm lithography process]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Sumber dan atribusi ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Proses+7+nm&amp;amp;oldid=29454921 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 29454921 (2026-07-13T23:50:47Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>Maintenance script</name></author>
	</entry>
</feed>