Lompat ke isi

Klorin trifluorida: Perbedaan antara revisi

Ensiklopedia Pengetahuan Universitas Islam Sultan Agung
Maintenance script (bicara | kontrib)
Impor teks terkontrol dari Wikipedia bahasa Indonesia; revisi 28798544; atribusi sumber disertakan.
 
Maintenance script (bicara | kontrib)
Presentation V4: sitasi, referensi, Math, Wikimedia Commons, dan atribusi
 
Baris 1: Baris 1:
'''Klorin trifluorida''' adalah sebuah [[senyawa interhalogen]] dengan rumus kimia ClF<sub>3</sub>. Senyawa ini berwujud gas tak berwarna, beracun, [[korosi]]f, dan sangat reaktif. Senyawa ini sering dijual dalam bentuk cair (dengan diberi tekanan tinggi), dan dalam wujud ini ClF<sub>3</sub> berwarna kuning kehijauan muda. Senyawa ini banyak digunakan sebagai [[bahan bakar roket]], berbagai proses di [[industri semikonduktor]], pengolahan bahan bakar nuklir,, serta proses-proses industri lainnya.
'''Klorin trifluorida''' adalah sebuah [[senyawa interhalogen]] dengan rumus kimia ClF<sub>3</sub>. Senyawa ini berwujud gas tak berwarna, beracun, [[korosi]]f, dan sangat reaktif. Senyawa ini sering dijual dalam bentuk cair (dengan diberi tekanan tinggi), dan dalam wujud ini ClF<sub>3</sub> berwarna kuning kehijauan muda. Senyawa ini banyak digunakan sebagai [[bahan bakar roket]], berbagai proses di [[industri semikonduktor]],<ref>Hitoshi Habuka. [https://www.researchgate.net/publication/234996806 Silicon Etch Rate Using Chlorine Trifluoride]. ''Journal of the Electrochemical Society''. 2004. Vol. 151 (11). hlm. G783–G787. doi:10.1149/1.1806391.</ref><ref>Xi, Ming et al. (1997) "Process for chlorine trifluoride chamber cleaning"</ref><ref>Hitoshi Habuka. [https://www.intechopen.com/books/physics-and-technology-of-silicon-carbide-devices/etching-of-silicon-carbide-using-chlorine-trifluoride-gas Physics and Technology of Silicon Carbide Devices]. 2012. doi:10.5772/50387. ISBN 978-953-51-0917-4.</ref> pengolahan bahan bakar nuklir,,<ref>(BEST) Board on Environmental Studies and Toxicology. ''Acute Exposure Guideline Levels for Selected Airborne Chemicals: Volume 5''. National Academies Press. 2006. hlm. 40. ISBN 978-0-309-10358-9. (available from [http://books.nap.edu/catalog.php?record_id=11774 National Academies Press])</ref> serta proses-proses industri lainnya.<ref>Boyce, C. Bradford and Belter, Randolph K. (1998) "Method for regenerating halogenated Lewis acid catalysts"</ref>


== Referensi ==
== Referensi ==
 
<references />
 


== Sumber dan atribusi ==
== Sumber dan atribusi ==


Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Klorin+trifluorida&oldid=28798544 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 28798544 (2026-01-10T09:18:46Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.
Konten artikel ini diadaptasi dari [https://id.wikipedia.org/w/index.php?title=Klorin+trifluorida&oldid=28798544 Wikipedia bahasa Indonesia], revisi 28798544 (2026-01-10T09:18:46Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.
<!-- WIKI_UNISSULA_PRESENTATION_V4 -->

Revisi terkini sejak 30 Agustus 2026 04.02

Klorin trifluorida adalah sebuah senyawa interhalogen dengan rumus kimia ClF3. Senyawa ini berwujud gas tak berwarna, beracun, korosif, dan sangat reaktif. Senyawa ini sering dijual dalam bentuk cair (dengan diberi tekanan tinggi), dan dalam wujud ini ClF3 berwarna kuning kehijauan muda. Senyawa ini banyak digunakan sebagai bahan bakar roket, berbagai proses di industri semikonduktor,[1][2][3] pengolahan bahan bakar nuklir,,[4] serta proses-proses industri lainnya.[5]

Referensi

  1. Hitoshi Habuka. Silicon Etch Rate Using Chlorine Trifluoride. Journal of the Electrochemical Society. 2004. Vol. 151 (11). hlm. G783–G787. doi:10.1149/1.1806391.
  2. Xi, Ming et al. (1997) "Process for chlorine trifluoride chamber cleaning"
  3. Hitoshi Habuka. Physics and Technology of Silicon Carbide Devices. 2012. doi:10.5772/50387. ISBN 978-953-51-0917-4.
  4. (BEST) Board on Environmental Studies and Toxicology. Acute Exposure Guideline Levels for Selected Airborne Chemicals: Volume 5. National Academies Press. 2006. hlm. 40. ISBN 978-0-309-10358-9. (available from National Academies Press)
  5. Boyce, C. Bradford and Belter, Randolph K. (1998) "Method for regenerating halogenated Lewis acid catalysts"

Sumber dan atribusi

Konten artikel ini diadaptasi dari Wikipedia bahasa Indonesia, revisi 28798544 (2026-01-10T09:18:46Z), yang tersedia berdasarkan lisensi Creative Commons Atribusi-BerbagiSerupa (CC BY-SA). Mohon gunakan konten ini secara bijak serta sesuai dengan ketentuan lisensi yang berlaku.